Armoire de lavage SB MC 2

Dans la lignée de son modèle SB MB lancée en 2011 à destination des stations multipistes (soit pour 2, 3 ou 4 pistes), Kärcher lance en cette fin d’année une nouvelle armoire de lavage en libre service pour le nettoyage haute pression des véhicules, sous la référence SB MC 2.

Outre sa grande compacité, le principal avantage de cette armoire présentée en avant-première au salon Uniti de Stuttgart, puis récemment à Automechanika, est d’offrir de nombreuses possibilités avec une configuration adaptée à chaque besoin. Eau chaude jusqu’à 40°C ou eau froide, pour une ou deux pistes de lavage, les exploitants bénéficieront d’une solution quasi sur mesure.

Ainsi, la configuration de base comprend quatre programmes de nettoyage standard : lavage haute pression, nettoyage avec mousse, rinçage et application d’un agent de séchage et/ou cire de finition. Les programmes supplémentaires en options pour décoller la saleté tenace ou éliminer efficacement les résidus d’insectes permettent de couvrir pratiquement tous les besoins de nettoyage, sachant que l’utilisation de cette machine se veut facile et confortable. En effet, la sélection des programmes de nettoyage s’effectue à l’aide d’un seul et grand sélecteur rotatif positionné à hauteur des yeux. De plus, le guidage du flexible est conçu de manière à éviter tout contact avec le sol, et donc les salissures.

Dans le même esprit, la lance HP et la brosse de nettoyage bénéficient d’une très bonne prise en main et peuvent être déplacées autour du véhicule grâce au long flexible, tandis qu’un afficheur disponible en option indique le temps restant. Par ailleurs, les exploitants peuvent aussi choisir, en plus du nombre de pistes et de la température d’eau, la puissance des pompes (500 l/h ou 900 l/h), la mise hors gel et une couleur personnalisée. Des serrures de sécurité différentes permettent quant à elles de limiter l’accès à la monnaie aux personnes autorisées tout en laissant la possibilité à un employé d’intervenir au niveau de la partie technique.